Ведомство запускает разработку автоматизированной установки
для контроля процесса ионного легирования полупроводниковых пластин диаметром
до 200 мм. Система на базе искусственного интеллекта должна заменить
американские установки KLA-Tencor.
Ведомство запускает разработку автоматизированной установки
для контроля процесса ионного легирования полупроводниковых пластин диаметром
до 200 мм. Система на базе искусственного интеллекта должна заменить
американские установки KLA-Tencor.